一、已實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代的設(shè)備領(lǐng)域

刻蝕設(shè)備?

中微公司5nm刻蝕機(jī)打入臺(tái)積電供應(yīng)鏈，北方華創(chuàng)14nm刻蝕機(jī)覆蓋全工藝鏈，兩者合計(jì)占國(guó)內(nèi)新增產(chǎn)線25%份額?。

國(guó)產(chǎn)化率在28nm及以上成熟制程達(dá)80%?。

薄膜沉積設(shè)備?

拓荊科技為國(guó)內(nèi)唯一量產(chǎn)PECVD和ALD設(shè)備的廠商，12英寸產(chǎn)線覆蓋率超80%?。

清洗設(shè)備?

盛美上海單片清洗設(shè)備全球領(lǐng)先，綁定中芯國(guó)際先進(jìn)產(chǎn)線?。

CMP設(shè)備（化學(xué)機(jī)械拋光）?

華海清科壟斷國(guó)產(chǎn)市場(chǎng)，是國(guó)內(nèi)唯一12英寸拋光設(shè)備供應(yīng)商?。

測(cè)試分選設(shè)備?

長(zhǎng)川科技（營(yíng)收3323億元）、華峰測(cè)控等企業(yè)主導(dǎo)，預(yù)計(jì)2025年國(guó)產(chǎn)化率將達(dá)60%?。

二、仍依賴進(jìn)口的核心設(shè)備

光刻機(jī)?

上海微電子28nm DUV光刻機(jī)進(jìn)入產(chǎn)線測(cè)試（國(guó)產(chǎn)化率90%），但EUV光刻機(jī)完全依賴ASML?。

7nm以下制程所需的高端光刻機(jī)100%進(jìn)口?。

量測(cè)與缺陷檢測(cè)設(shè)備?

中科飛測(cè)掌握2Xnm缺陷檢測(cè)技術(shù)，但7nm以下檢測(cè)設(shè)備仍需進(jìn)口KLA產(chǎn)品?。

離子注入機(jī)?

萬業(yè)企業(yè)子公司凱世通的12英寸設(shè)備剛導(dǎo)入長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)，高端機(jī)型仍被應(yīng)用材料壟斷?。

高端零部件?

靜電吸盤（ESC）、射頻電源、高精度閥門等底層部件進(jìn)口依賴度超70%?。

三、國(guó)產(chǎn)替代核心瓶頸

材料純度?

12英寸硅片翹曲度（<5μm）、金屬雜質(zhì)控制（<0.1ppt）與美國(guó)仍有差距?。

設(shè)備生態(tài)鏈?

單晶爐（Kayex）、檢測(cè)設(shè)備（KLA）等關(guān)鍵裝備依賴進(jìn)口，制約全鏈條自主化?。

政策支持焦點(diǎn)?

國(guó)家大基金三期3440億元重點(diǎn)投入設(shè)備與材料環(huán)節(jié)，目標(biāo)2030年高端硅片進(jìn)口依賴度降至10%以下?。

數(shù)據(jù)備注?：2025年Q1中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口量增4.7%但金額降9.4%，反映成熟制程設(shè)備本土化加速?；同期高端設(shè)備進(jìn)口額仍占國(guó)內(nèi)需求的61%?。